[サムスン電子、EUV基盤の5ナノ工程開発]
サムスン電子が極紫外線(EUV)技術を基盤に「5ナノ(㎚)工程」開発に成功し、ファウンドリー事業で世界1位の台湾「TSMC」を迫ることになった。
5㎚工程はセル設計の最適化を通じ、従来の7㎚工程比、ロジック面積を25%減らし、電力効率は約20%改善することができる。 性能も10%向上される。
サムスン電子は5㎚工程の開発とともに、7㎚、6㎚の量産も本格化するなど超微細工程ポートフォリオの拡大を通じ、ファウンドリー技術リーダーシップを強化するという戦略だ。
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