[サムスン電子、業界初のEUV Dラムの量産へ…顧客企業にモジュール100万つ供給]
サムスン電子が業界初のDラムにEUV(極紫外線)工程を適用し、量産体制を整えた。 EUV工程は超微細半導体の製造に最も注目される技術だ。
サムスン電子は25日、EUV工程を適用して生産した第1世代(1x)10ナノ級DDR4 Dラムモジュール100万つ以上を供給し、グローバル顧客の評価を完了したと明らかにした。
EUV露光技術を適用すれば、回路を刻む作業を繰り返すマルチパターニング工程を減らし、パターニング精度を高め、性能や歩留まりを向上させ、製品の開発期間を短縮することができる。
サムスン電子は現在、EUV工程で、14ナノ前半の「4世代10ナノ級(1a)Dラム量産技術」を開発しており、今後、次世代製品の品質と歩留まりも従来の工程製品以上に向上させる予定だ。
EUVを利用して作った第4世代10ナノ級(1a)Dラムは第1世代10ナノ級Dラムよりも12インチウェハー当たりの生産性を2倍に高め、事業競争力をさらに強化できるようになった。
サムスン電子は来年、性能と容量をさらに高めた第4世代10ナノ級(1a)Dラム(DDR5、LPDDR5)を量産し、第5世代、6世代Dラムも先行開発し、プレミアムメモリー市場での技術リーダーシップをさらに強化していくという戦略だ。
サムスン電子は来年からDラム市場の本格拡大に合わせ、グローバルIT顧客との技術協力を強化し、メーカー間の多様な標準化活動を推進し、次世代システムでの新製品搭載の割合を持続的に高めていく予定だ。
また、今年下半期に平沢(ピョンテク)の新規ラインを稼動することで、増加する次世代プレミアムDラム需要に安定的に対応できる量産体制を構築する計画だ。
<亜洲日報の記事等を無断で複製、公衆送信 、翻案、配布することは禁じられています。>
