SKハイニックス、EUV装備の確保に約5兆ウォン投入…"次世代工程に対応"

박수정 기자

登録 : 2021-02-25 15:31 | 修正 : 2021-02-25 15:31

[SKハイニックス、EUV装備の確保に約5兆ウォン投入…"次世代工程に対応"]



SKハイニックスが次世代工程の量産対応に向けた極紫外線(EUV)装備の購買に約5兆ウォンを投資する。

SKハイニックスは24日、理事会を開き、EUVスキャナー機械装置の購入のために2025年12月まで4兆7549億ウォンを投資することを議決したと明らかにした。 これは自己資本対比7.34%に該当する。

取引相手はオランダのASMLだ。 ASMLは半導体装備メーカーで、世界で唯一EUV装備を生産するものと知られている。

SKハイニックスの関係者は"取得価額はEUVスキャナーの導入及び運営のための新規機械装置及び設置にかかる総予想金額"とし、"取得の予定日は最終的な機械装置を引き渡されるものと予想される日基準で、契約相手との協議によって変更されることができる"と明らかにした。

EUV装備は1台当たり平均2000億ウォン水準と知られている。 これによって、SKハイニックスは5年間、20台以上のEUV装備を導入する計画を立てたものとみられる。

EUVは従来に露光に使われていたフッ化アルゴン(ArF)光源に比べて14分の1未満に波長の長さが短く、薄く精密な回路パターンを具現できるのが特徴だ。
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